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GaiaMicro-G系列顯微高光譜成像系統

  • 產品型號:
  • 產品時間:2024-05-20
  • 簡要描述:GaiaMicro-G系列顯微高光譜成像系統是將推掃型高光譜相機與顯微鏡結合,構成顯微高光譜系統的主體,再借助顯微鏡的光路系統、不同倍率的物鏡(可見)、不同倍率的反射物鏡(紅外)以及二維電控掃描平臺來實現的。
  • 產品介紹

GaiaMicro-G系列顯微高光譜成像系統

 

原理介紹:

GaiaMicro-G系列顯微高光譜成像系統是將推掃型高光譜相機與顯微鏡結合,構成顯微高光譜系統的主體,再借助顯微鏡的光路系統、不同倍率的物鏡(可見)、不同倍率的反射物鏡(紅外)以及二維電控掃描平臺來實現的。

 

可見近紅外顯微系統采用透射式的光路結構,在不同放大倍率物鏡下,可以清楚的觀察、采集到相應的顯微高光譜數據,系統采用的是二維平移機構,X軸為圖像掃描軸,Y軸為調焦軸,實現自動曝光、自動對焦等流程。

 

近紅外顯微系統采用半透半反射式光路結構,大功率溴鎢燈輸出光源能滿足光譜響應范圍,系統采用的方案:高光譜相機靜止不動,通過控制二維平移機構的掃描軸完成圖像的采集,通過特殊設計的光路結構,可以實現全透、半透半反模式的光路調整,再通過目鏡來觀察和手動調整焦距完成整個系統的焦距調試。

 

優勢描述:

1、自動調焦、自動曝光、自動匹配掃描速度(顯微-可見近紅外系統)

2、反射率校準、均勻性校準、區域校準等

3、二維整體精密電控平移機構

4、可見近紅外顯微系統,可實現反射和透射式的高光譜成像,可利用GaiaField內置掃描結構帶動光譜成像系統來完成,也可以借助Image-λ-V10/V10E系列相機和電控二維掃描機構來實現

5、近紅外顯微系統,反射式顯微高光譜成像系統借助Image-λ-N17E系列相機和電控二維掃描機構來實現

6、高空間分辨率和光譜分辨率

 

顯微高光譜系統主要技術參數:

型號

GaiaMicro-G

-V10-LU

GaiaMicro-G

-V10E-AZ4

GaiaMicro-G

-N17E

GaiaMicro-G

-N17E-HR

光譜范圍

400-1000nm

400-1000nm

900-1700nm

900-1700nm

光譜分辨率

3.5nm

2.8nm

5nm

5nm

數值孔徑

F/2.8

F/2.4

F/2.0

F/2.0

狹縫尺寸

30um*

9.6mm

30um*

14.2mm

30um*

14.2mm

30um*

14.2mm

探測器

CCD

SCMOS

InGaAs

InGaAs

像素數(空間維*光譜維)

1392*1040

2048*2048

320*256

640*512

光譜通道數

256(有效通道240)

512(有效通道360)

數據輸出

14 bits

16 bits

14 bits

14 bits

連接方式

USB 2.0

USB3.0

USB2.0/

Gige

USB2.0/

Gige

物鏡

平場無限遠長工作距消色差金相物鏡

(5x、10x、20x、50x)

選配:100x

反射式物鏡10X、40X

選配:20X、30X

顯微系統

(標配金相顯微系統,透反射測試光路)

無限遠色差校正光學系統10X目鏡30°傾斜,

無限遠鉸鏈三通觀察筒,

瞳距調節:54mm~75mm,

單邊視度調節:±5屈光度,

兩檔分光比R:T=100:0或50:50

物鏡轉換器:內定位五孔轉換器

注:其它品牌如奧林巴斯、蔡司的生物、熒光、金相顯微鏡均可進行高光譜相機搭載,具體可與我司銷售人員。

 

反射物鏡:

 

反射物鏡參數:

倍率

10倍

20倍

30倍

40倍

適用波長

350nm~7μm

350nm~7μm

350nm~7μm

350nm~7μm

焦距f

19.9mm

10mm

6.7mm

5mm

NA(數值孔徑NA)

0.2

0.35

0.41

0.49

視場

φ1.0mm

φ0.5mm

φ0.34mm

φ0.25mm

工作距離 WD

16mm

7mm

5mm

3.5mm

機械鏡筒長

80~∞(可変)mm

遮光率

約36%

約36%

約36%

約36%

 

GaiaMicro-F系列顯微高光譜系統

GaiaMicro-F系列顯微高光譜系統采用液晶可調濾光片(LCTF)為分光元件,采用高靈敏度科研級制冷型SCMOS相機為成像器件,一體化設計或直接與各種商用顯微鏡的相機接口(F接口)結合,無需掃描機構,具有高靈敏度、高空間分辨率的特點。

 

主要技術參數:

 

 

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